В ИПР РАН рассказали о разработке оборудования для производства чипов с техпроцессом 7 нм
Российские инженеры рассказали о ходе разработки оборудования для производства чипов с техпроцессом 7 нм. Об этом сообщает портал Техносфера Россия.
Техпроцессом в электронной промышленности называют разрешение фотолитографического оборудования. Иными словами, чем меньше техпроцесс, тем меньшего размера будут детали чипа. В свою очередь, это ведет к экономии электроэнергии и понижении тепловыделения, или же к росту производительности.
Институт прикладной физики Российской академии наук разрабатывает фотолитографическую установку для создания чипов с техпроцессом 7 нанометров. Для сравнения, в данный момент рекордно малым техпроцессом для России является 65 нм, а на большинстве производств не могут преодолеть отметку в 90 нм, причем это достигается во многом на импортном подержанном оборудовании. Этот стандарт соответствует западным чипам начала 2000-х годов.
В данный момент готов «прототип прототипа» нового отечественного микролитографа, однако он уже может формировать 7-нанометровые изображения деталей на подложках. В 2024 году должна быть готова «альфа-машина». Уже с этого момента установка станет рабочим оборудованием и будет рассчитана на проведение полного цикла операций. Однако упор на этом этапе будет сделан не на высокую скорость ее работы или разрешение, а на полноценную реализацию всех систем. Завершить разработку планируют к 2028 году.
Аппарат работает в рентгеновском диапазоне. Излучение лампы проходит через маску сложной формы и «запечатывает» фотополимер на подложке. Так слой за слоем создается микроструктура будущего чипа.
Ранее инженеры создали автоматическую лазерную пушку для уничтожения тараканов.
